产品中心
  • GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子溅射仪,可进行金、铂、铟、银等多种金属的溅射镀膜,样品直径可达50mm,镀膜厚度可达300?,特别适用于SEM样品的镀膜。
  • GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的*简单、可靠、经济的镀膜设备,适用于实验室各种复合膜样品的制备,以及非导体材料实验电极的制作。
  • GSL-1100X-SPC-16C溅射蒸镀膜仪配备了热蒸发附件,具有溅射和蒸发两种功能。不但可以用等离子溅射的方式镀金属膜,也可以用蒸发的方式得到碳或其他金属单质的薄膜。本机能够满足扫描电子显微镜样品的制备和非导体材料实验电极的制作,也可以用于材料研究中各种新材料性能的实验。
  • VTC-2DC是一款小型的直流(DC)等离子体磁控溅射镀膜仪系统,系统中包含了所有所需的配件,如500W(600V)的DC电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜,它是一款物美价廉的实验手。
  • VTC-2RF是一款小型的射频(RF)等离子体磁控溅射镀膜仪系统,系统中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜,它是一款物美价廉的实验帮手。
  • OTF-1200X-RTP-II是一款快速蒸发管式炉,专门针对于用PVD或CSS法来制作薄膜。此款管式炉炉管直径为11" OD,炉管内载样盘可放置3" 的圆形或2"x2"的方形基片。加热元件为两组红外灯管,分别安装在腔体的顶端和底部,其升温速率高达20oC/S 。温控系统为PID30段程序化控制,控温精度为+/-1oC。仪器面板上带有RS485接口,若仪表内配有控温软件,就可将升温程序和曲线导出.
  • GSL-1100X-SPC16-3 等离子3靶溅射仪是一款经过CE认证的紧凑型等离子镀膜机。本机是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,*简单、可靠、经济的镀膜设备。它的特别之处是在一个真空室内设计安装了三个靶。旋转样品台,可以依次在同一样品上涂覆三种材料。适用于实验室的各种复合膜样品制备,及非导体材料实验电极制作。
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